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ASTMG 85—1998 改性鹽霧試驗(yàn)方法(十)

日期:2024-11-23 23:57
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摘要: ASTMG 85—1998 改性鹽霧試驗(yàn)方法 必須遵循的資料(十) A5稀電解液噴霧/干燥循環(huán)試驗(yàn) A5.1 本試驗(yàn)采用 1 小時(shí)干燥和 1 小時(shí)噴霧的方法。電解液是氯化鈉和硫酸銨溶液,比一般的鹽霧濃度低的多。噴霧在室溫下進(jìn)行, 而干燥在較高溫度下進(jìn)行。另外,噴霧霧化的空氣水含量不飽和。 注 A5.1:本試驗(yàn)特別適用于鋼制品上的涂層。 A5.2 鹽溶液: A5.2.1 用 0.05%的氯化鈉和 0.35%塊狀硫酸銨制備電解液。水和氯化鈉必須符合第 6 章要求的純度。硫酸銨雜質(zhì)總量不超過(guò) 0.3%。 A5.3 鹽霧箱的條件: A5.3.1 濕潤(rùn)/干燥循環(huán)...
 ASTMG 85—1998 改性鹽霧試驗(yàn)方法 必須遵循的資料(十)

A5稀電解液噴霧/干燥循環(huán)試驗(yàn)
A5.1 本試驗(yàn)采用 1 小時(shí)干燥和 1 小時(shí)噴霧的方法。電解液是氯化鈉和硫酸銨溶液,比一般的鹽霧濃度低的多。噴霧在室溫下進(jìn)行,
而干燥在較高溫度下進(jìn)行。另外,噴霧霧化的空氣水含量不飽和。
注 A5.1:本試驗(yàn)特別適用于鋼制品上的涂層。
A5.2 鹽溶液:
A5.2.1 用 0.05%的氯化鈉和 0.35%塊狀硫酸銨制備電解液。水和氯化鈉必須符合第 6 章要求的純度。硫酸銨雜質(zhì)總量不超過(guò) 0.3%。
A5.3 鹽霧箱的條件:
A5.3.1 濕潤(rùn)/干燥循環(huán)—1 小時(shí)噴霧接著 1 小時(shí)干燥組成一個(gè)循環(huán)周期。
注 A5.2—經(jīng)驗(yàn)表明循環(huán)時(shí)間越長(zhǎng)剝蝕速度越慢。
A5.3.2 噴霧溫度—在噴霧過(guò)程中試驗(yàn)箱不加熱。鹽霧暴露在室溫和室內(nèi)環(huán)境下進(jìn)行。
A5.3:室內(nèi)環(huán)境條件應(yīng)該是無(wú)異常污染的室內(nèi)大氣環(huán)境,而不是由試驗(yàn)箱誘發(fā)的環(huán)境。這種條件應(yīng)控制溫度在(24±3)℃和相對(duì)濕度低于 75%。不
同的室溫條件產(chǎn)生不同的結(jié)果。
A5.3.3 收集的溶液 pH 值應(yīng)調(diào)整在 5.0~5.4 之間(見(jiàn) 4.3.2 和 6.4)。
A5.3.4 干燥溫度—暴露區(qū)溫度從噴霧周期轉(zhuǎn)換到干燥周期的3
/4小時(shí)內(nèi),應(yīng)達(dá)到并保持(35±1.5)℃。
A5.3.4.1 用新鮮的空氣吹入試驗(yàn)箱進(jìn)行干燥。這樣,在3
/4小時(shí)內(nèi),樣品上的所有看得見(jiàn)的水分被吹干。
A5.4 試驗(yàn)箱的改進(jìn)—為了達(dá)到在附錄中規(guī)定的溫度變化,ASTM/B117 所要求的試驗(yàn)設(shè)備應(yīng)改進(jìn)或者增加配件,所用的設(shè)備應(yīng)包括:
A5.4.1 暴露箱。
A5.4.2 溫度控制器。
A5.4.3 空氣流動(dòng)裝置。
A5.4.4 隔離層。
A5.4.5 測(cè)量試驗(yàn)箱內(nèi)加熱空氣或管中的水的溫度的裝置。
A5.4.6 與試驗(yàn)箱生產(chǎn)商商定的設(shè)備附加裝置或建議的設(shè)備。
A5.5 飽和塔—這個(gè)試驗(yàn)不使用濕潤(rùn)空氣,使用下列方法中的一種來(lái)避免濕潤(rùn)空氣
A5.5.1 排空飽和塔并確認(rèn)飽和塔加熱裝置是關(guān)閉的。
A5.5.2 調(diào)節(jié)噴霧管道使霧化空氣不通過(guò)飽和塔,而直接通過(guò)噴嘴。
注 A5.4:從濕潤(rùn)到干燥的循環(huán)使樣品經(jīng)歷了一個(gè)溶液濃度變化的過(guò)程,從噴霧時(shí)很稀的濃度到完全干燥前很高的濃度。不要用水使噴霧空氣飽和,因?yàn)轱柡偷哪康氖菐椭芤罕3止潭ǖ臐舛取?
A5.6 噴霧和噴霧量—試驗(yàn)進(jìn)行時(shí),在持續(xù)噴霧至少 16 小時(shí)的過(guò)程中收集鹽霧。通常的 1 小時(shí)噴霧不能收集到**測(cè)定所需的足夠的噴霧量。鹽霧的收集裝置見(jiàn) 4.3.2。

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